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초음파 세척과 주파수 초음파 세척과 주파수

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작성자하나초음파 댓글 0건 조회 1,021회 작성일 21-02-09 14:12

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초음파 세척과 주파수와의 관계

 


초음파 세척은 68KHz대 이하의 KHz대와 100KHz500KHz대의 고주파대(高周波帶) 1MHz 이상의 메가 대로 크게 나누어진다.

KHz대는 통상 28KHz 40KHz를 사용하고 있으며 이는 강력한 Cavitation작용에 의해 세척이 이루어지고 있어 정밀하고 약한 부품의 세정에는 68KHz를 사용하고 있으며 반도체, 액정, 초정밀 부품 등의 세정에는 100KHz500KHz대의 고주파대를 이용하고 있으며 TFT, LCD등의 초정밀 세정에는 메가(MHz)대로 세정을 행하고 있으며 100KHz이상의 주파수는 Cavitation 작용이 아닌 강력한 분자 이동에 의해 세정이 이루어지고 있다.

 

MHz세정기는 10여년 전에 미국에서 웨이퍼 세정기용으로 개발되었으나 초기에는 많은 문제점이 있어서 그간 보완되어 오늘에 이르러서 그간 부품 산업의 발전과 더불어 MHz세정기로서는 세정이 어렵고 40KHz대로서는 부품의 손상내지 파손을 가져 오게 되어 그 중간 주파수대의 필요성에 따라 개발된 것이 100KHz, 170KHz이며 2년 전부터는 400KHz대도 출시되고 있다. 현재 일본에서는 100KHz 170KHz의 시장이 증가고 있으며 400KHz대의 시장도 작년부터 증가 하고 있는 추세에 있습니다.


 

항 목

28KHz

40KHz

고주파

메 가

세정 원리

Cavitation

Cavitation

분자의 가속도

분자의 가속도

입자 가속도

1500G

2500G

10000G 이상

100000G 이상

충 격 파

수백 기압

수십 기압

없음

없음

정 재 파

매우 강력

강 력

없음

없음

파동의 특징

회절이 강함

회절이 강함

직진성이 높음

직진성이 높음

제거 가능 입자

3μm 이상

2μm 이상

1μm 이상

0.1μm 이상

용 도

일반세정용

일반세정용

정밀세정용

초정밀세정용



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